1,3-ジメチル-1,1,3,3-テトラフェニルジシロキサン(HC-7304)

1,3-ジメチル-1,1,3,3-テトラフェニルジシロキサンは、フェニル含有量の高い有機シリコン中間体です。 「メチル基とテトラフェニル基を二重に持つ」ユニークな対称分子構造を持ち、フェニルシロキサンの高い耐熱性、耐放射線性、優れた光学特性とメチルシロキサンの良好な相溶性を兼ね備えています。高性能フェニルシリコーンゴム、シリコーン樹脂、光学材料、高温耐性塗料などの重要な原料であるとともに、フェニルシリコーンオイルの連鎖停止剤としても機能します。この製品は、航空宇宙、電子情報、ハイエンド製造などの精密分野における材料アップグレード要件に広く適しています。
1,3-ジメチル-1,1,3,3-テトラフェニルジシロキサン(HC-7304)

物理的および化学的特性:

 

CAS番号 

CAS番号

807-28-3

分子式 

分子式

C26H26OSi2

分子量

分子量

410.66

沸点

沸点

442℃

熔点

融点

46~49℃

外观

色と外観

無色半透明液体(T≧50℃)または白色固体

無色半透明の液体(T≧50℃)または白色の固体粉末(<50 ℃)

密度

関連する密度

1.08±0.1g/cm3

含有量

分。 純粋さ

最小98%

用途:

航空宇宙およびハイエンド機器

航空機エンジンのシール、宇宙船の断熱コーティング、ロケット推進剤のコーティング材料などの用途に適した、耐高温フェニルシリコーンゴムおよび耐磨耗性シリコーン樹脂の製造に使用されます。優れた耐放射線性を活かして原子力機器の絶縁・シール材として採用され、極限環境下での機器の信頼性を確保します。

 

電子情報・半導体

ハイエンドの電子封止材および半導体フォトレジスト添加剤の中核原料として機能し、パッケージング材料の耐熱性と絶縁性を向上させ、高周波および高温条件下でのチップの安定動作を保証します。高周波通信機器の誘電体材料の作製にも応用でき、信号の伝送損失を低減します。

 

光学材料

光学接着剤、レンズコーティング剤、光ファイバーコーティング材の調製に適しています。高い光透過率と低分散特性により、光学部品の画質と耐候性を向上させます。高級眼鏡レンズや光学機器のレンズの改質材として使用でき、耐摩耗性や耐老化性が向上します。

 

ハイエンドのコーティングと改質材料

耐高温工業用コーティングの調製に使用され、ボイラー、窯、高温パイプラインなどの機器の保護コーティングに適しており、耐用年数を延ばします。有機樹脂改質剤として機能し、エポキシ樹脂やフェノール樹脂の耐熱性、柔軟性、耐食性を向上させ、ハイエンド製造における用途を拡大します。

梱包と保管:

 梱包仕様:

20kg真空-密封された段ボールドラム(二重層PE袋+防湿インナーライナー付き)、

50kg真空-密封スチールドラム(PEバッグライニング付き)、

200kg真空-密閉されたスチールドラム。カスタマイズされた梱包オプションも利用できます。

 

保管条件:

冷暗所、乾燥した換気の良い専用倉庫に密封して保管してください。

保管温度は 25°C 以下、相対湿度は 55% 以下である必要があります。火気、熱源、直射日光、湿気の多い環境から遠ざけて保管してください。引火性、爆発性、腐食性物質と一緒に保管しないでください。

 

交通要件:

標準的な化学物質輸送規制に従って輸送してください。輸送中は、湿気、衝撃、日光、雨から確実に保護してください。危険な化学物質との混合は固く禁止されています。吸湿につながる可能性のある梱包の損傷を防ぐため、積み下ろしの際は慎重に扱ってください。

製品の化学的性質上、他の化学物質と反応する可能性があります。したがって、使用前に十分なテストと評価を行う必要があります。

使用中は、適切な個人用保護具を着用し、関連する安全操作手順に従う必要があります。皮膚や目に直接触れないようにしてください。誤って接触した場合は、直ちに多量の水で洗い流し、速やかに医師の診察を受けてください。

 

 

特記事項:

上記の製品説明、技術的パラメータ、使用上の推奨事項、および関連データは、現在の科学的知識と実験データに基づいて、専門的な態度と誠意を持って作成されています。ただし、製品の実際の性能は、輸送や保管の条件、外部環境、サポート設備、ユーザーの技術力などの制御できない要因によって異なる場合があります。ユーザーは、意図した用途に対する製品の適合性を独自に評価するものとします。この製品を使用する前に、ユーザーは十分なテストと検証を行って、それが要件を満たしているかどうかを判断する必要があります。

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